組織

公益社団法人 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会内に「システムデバイスロードマップ委員会（SDRJ）」を設立しました。システムデバイスロードマップ委員会内に運営委員会と分野別のワーキンググループを設置しています。

【運営委員会】

委員長

慶應義塾大学           　　　　　　                              林　喜宏

 

委員（五十音順）

国立研究開発法人　産業技術総合研究所　　　　　　      秋永　広幸

元　キオクシア株式会社　　　　　　　　　　　　　　　石内　秀美

東京大学　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　      内田　建

国立研究開発法人　産業技術総合研究所　　　　　　      遠藤　和彦

ルネサスエレクトロニクス株式会社　　　　　　　　      大西　和博

ソニーセミコンダクタソリューションズ 株式会社 　       辰巳　哲也

株式会社 日立製作所 　　　　　　　　　　　　　　       高浦　則克

株式会社 荏原製作所 　　　　　　　　　　　　　　       辻村　学

東京大学　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　      平本　俊郎

東京工業大学　　　　　　　　　　　　　　　　　　      若林　整 

【ワーキンググループ（WG）】

  • Application and Benchmarking (AB)：　コンピュータサイエンスに基づいた次世代情報処理システムアークテクチャ
    (    非ノイマン型・ニューロモーフィック型アーキテクチャを含む)のロードマップ
  • Systems & Architectures (SA)：　将来市場をけん引するアプリケーションの選定とその半導体デバイスシステムアーキテクチャのロードマップ
  • Outside System Connectivity (OSC)：　半導体デバイス間をつなぐRFシステム(含む、多機能アンテナ)や光通信デバイス等のロードマップ
  • More Moore (MM)：　GAA(ナノシート)や3D化、新材料チャネル等ロジックとメモリの高密度高性能化のロードマップ
  • Beyond CMOS(BC)：　新原理コンピューティング、BEOLメモリ(クロスポイント不揮発性メモリ・スイッチアレー)や量子効果等、新構造・新材料デバイス及びアーキテクチャのロードマップ
  • More than Moore(MtM)：　多機能・異種混載(multifunctional heterogeneous)によるシステムでの解決が必要な応用分野・技術分野のロードマップ
  • Factory Integration(FI)：　生産Big Dataを活用したアドバンスアナリティクス、次世代対応のスマート製造システムを含むマイクロエレクトロニクスデバイス製造インフラ全般のロードマップ
  • Lithography (L)：　EUV等、次世代リソグラフィのロードマップ
  • Metrology (M)：　３D構造化や新材料デバイスに対応した物理解析及びウエーハ計測技術に対応したロードマップ
  • Yield Enhancement (YE)：　次世代半導体デバイスの高歩留り化に向けたクリーン化技術のロードマップ
  • Environment, Safety, Health, and Sustainability (ESH/S)：　環境・健康促進に対応したエコシステムのロードマップ 


【SDRJの委員会構成と規模】

  • 想定する登録メンバの人数：　100名前後
  • IRDSのInternational Focus Team （IFT）に準じ、SDRJのWGを組織化
  • 想定するメンバの所属組織：　半導体デバイスメーカ、半導体製造装置メーカ、材料メーカ、大学、官民の研究機関
  • 半導体のユーザ企業（電子機器メーカ）、個別部品メーカからの参加も歓迎する。
  • 半導体プロセス・デバイス・回路の専門家だけでなく、コンピュータアーキテクチャの専門家もメンバに勧誘。将来的には、国内の関連学会との連携も検討する。

【SDRJ委員会委員にとってのメリット】

  • 将来の半導体とその応用分野の技術動向について、日本国内での議論の場を提供できる。
  • IRDSをはじめとする国際的なロードマップ策定団体との議論を通じて、最先端半導体の技術動向、集積回路の応用分野の技術動向、新しいコンピュータアーキテクチャとその実現のためにどのような半導体デバイスが必要など多くの情報が得られる。
  • 日本国内での検討結果を、必要に応じ国際的なロードマップに反映させることにより、世界に対する情報発信が可能となる。